SF32LB57x 硬件设计指南 — PCB 布局指导¶
SF32LB57x 硬件设计指南的一部分
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6. PCB 布局指导¶
6.1. 层叠建议¶
SF32LB57x 提供 QFN68L(7 × 7 mm、68 引脚、0.35 mm 间距)和 QFN80L(8 × 8 mm、80 引脚、0.35 mm 间距)封装。QFN 设计通常可采用 4 层 PTH PCB,元件可布置在 PCB 单面或双面,例如将电容等元件布置在 PCB 背面。BGA112 封装尺寸为 5.4 × 4.4 mm,共 112 个焊球,间距为 0.4 mm。BGA 设计通常至少需要 4 层,视扇出难度可采用一阶 HDI 盲埋孔工艺;器件也可采用单面或双面布局。
良好的层叠设计应满足:
- 顶层便于放置关键器件并布设短连接。
- 内层完整地平面。
- 电源分配网络保持低阻抗。
- 高速、RF、晶体、音频和模拟信号有连续参考地。
以下为参考叠层图中的材料与总厚度范围,实际叠层和成品厚度应与 PCB 制造商确认:
| 参考叠层 | 芯板 | 半固化片 | 总厚度范围 |
|---|---|---|---|
| QFN,1.6 mm | 1.1 mm H/HOZ 含铜芯板 | 7628 RC49%,材料标注 8.6 mil;厚度列为 8.28 mil(0.2104 mm) | 1.43~1.74 mm |
| QFN,0.8 mm | 0.25 mm H/HOZ 不含铜芯板 | 7628 RC49%,材料标注 8.6 mil;厚度列为 8.28 mil(0.2104 mm) | 0.67~0.87 mm |
原始资料中 QFN 半固化片标注与厚度栏存在冲突
原始 PCB 设计指南的 QFN 叠层图 3-1-2-1 和图 3-1-2-2(本文转录为表 6.1-1)将半固化片标为 7628 RC49%, 8.6 mil,但厚度栏给出的数值为 8.28 mil (0.2104 mm)。原资料没有解释差异原因,也没有指出哪项应作为制造控制值。未经思澈科技(SiFli)确认,不要自行择一或相互替代后用于正式叠层设计或投板。
| 参考叠层 | 芯板 | 半固化片 | 总厚度范围 |
|---|---|---|---|
| BGA,1.6 mm | 1.3 mm H/HOZ 含铜芯板 | 1080 RC67%,材料标注 3.3 mil;厚度列为 3.01 mil(0.0764 mm) | 1.37~1.67 mm |
| BGA,0.8 mm | 0.55 mm H/H 不含铜芯板 | 1080 RC67%,材料标注 3.3 mil;厚度列为 3.01 mil(0.0764 mm) | 0.70~0.90 mm |
原始资料中 BGA 半固化片标注与厚度栏存在冲突
原始 PCB 设计指南的 BGA 叠层图 3-1-2-3 和图 3-1-2-4(本文转录为表 6.1-2)将半固化片标为 1080 RC67%, 3.3 mil,但厚度栏给出的数值为 3.01 mil (0.0764 mm)。原资料没有解释差异原因,也没有指出哪项应作为制造控制值。未经思澈科技(SiFli)确认,不要自行择一或相互替代后用于正式叠层设计或投板。
上述四种参考叠层均采用 L1/L4 1 oz 铜箔(1.38 mil,0.0350 mm);L2/L3 两侧的铜箔厚度均为 0.60 mil(0.0152 mm)。
对于 4 层 QFN 方案,推荐的层分配为:第 1 层(顶层)——铺设接地铜皮,并放置器件、布置信号线;第 2 层——完整地平面,不走线,以保持参考地连续;第 3 层——电源层,可按电源域分割,也可承载信号走线;第 4 层(底层)——铺设接地铜皮并布置信号线。
6.2. 关键 PCB 约束速查¶
| 对象 | 约束 / 来源说明 | 说明 |
|---|---|---|
VBUS / VBAT |
线宽不小于 0.4 mm(约 16 mil) | 充电和电池路径电流较大,走线短而宽,并远离敏感信号线。 |
VCC / PVDD |
原始资料要求不一致:PCB 设计指南第 3.2.1 节要求 ≥0.4 mm;自查表 4-2-1-1 第 44 项(电池供电型号)要求 VCC ≥12 mil,第 47 项(3.3 V 供电型号)标题为 PVDD,核查要点却要求 VCC ≥12 mil。 |
须向思澈科技(SiFli)确认适用电源轨、型号范围和线宽;不能仅凭这些条目自行选定。 |
VDD33_VOUT1 / VDD33_VOUT2 |
线宽不小于 10 mil | 仅适用于电池供电系列;需核对软启动限流、浪涌电流和允许负载。 |
BUCK_LX / BUCK_FB |
BUCK_LX:≥ 10 mil;BUCK_FB:> 0.25 mm |
BUCK_LX 走线应短而宽;器件布局和避铜要求见 6.3 节。 |
AVDD_BRF / AVDD33_AUD |
线宽不小于 8 mil | 模拟/RF/音频供电走线应短而干净,并分别滤波。 |
| USB DP/DN | 90 Ω 差分 | 应先经过 ESD 防护器件,避免支线(stub),并保持参考地连续。 |
| RF 天线走线 | 50 Ω 单端 | 优先走顶层,尽量少用过孔,保持参考地连续,并用接地过孔屏蔽。 |
| RF 走线两侧接地铜皮宽度 | 每侧不小于 60 mil | 两侧接地铜皮均通过多颗接地过孔可靠连接主地。 |
| 48 MHz 晶体线 | 约 3 mm 到 10 mm | 优先走顶层,进行包地屏蔽,并在晶体下方设置铜箔禁布区。 |
| 32.768 kHz 晶体线 | ≤ 10 mm | 两线之间应保持间距,进行包地屏蔽,并远离噪声源。 |
| 晶体位置 | 距芯片时钟管脚 ≥ 1.5 mm;距板边 > 1 mm;距 PA、充电和 PMU 等发热器件 ≥ 5 mm | 48 MHz 和 32.768 kHz 晶体均适用。 |
| MPI 总线 | 总长 ≤ 20 mm,组内长度偏差 ≤ 3 mm | 时钟、数据和命令信号成组布线,并保持参考地连续。 |
| SDIO 总线 | 总长 ≤ 50 mm,组内长度偏差 ≤ 6 mm | CLK、CMD、DATA 成组布线并保持参考地连续。 |
VDDIOA |
线宽不小于 10 mil | 仅适用于 3.3 V 供电系列。 |
PTH 与 HDI 的线宽、间距和过孔参数参考图也给出了示例值:PTH 的最小及推荐线宽为 0.10 mm,最大线宽为 2.54 mm;其过孔示例的钻孔直径为 0.25 mm、焊盘直径为 0.45 mm。HDI 的最小及推荐线宽为 0.075 mm,最大线宽为 2.54 mm;微孔示例的钻孔直径为 0.10 mm、焊盘直径为 0.23 mm,通孔示例为 0.25 mm 和 0.45 mm。以上为参考图中的工艺示例,投板前应与 PCB 制造商确认其能力及实际规则。
6.3. 电源布局¶
- 大电流供电路径应短而宽。
- 充电路径应远离敏感的模拟、RF 和晶体信号走线。
- VCC、PVDD、VBUS 和 VBAT 的配套滤波电容应靠近芯片引脚。PCB 设计指南第 3.2.1 节规定
VCC/PVDD线宽不小于 0.4 mm;自查表 4-2-1-1 第 47 项则给出相冲突的 12 mil(标题为PVDD,核查要点为VCC)。在思澈科技(SiFli)确认适用电源轨和线宽前,不要确定 VCC 或 PVDD 的最终线宽。其他电源输出(包括 VDD_VOUT1、VDD_VOUT2、VDD_RET、VDD_RTC、VDD18_VOUT、VDD33_VOUT1、VDD33_VOUT2、AVDD33_AUD 和 AVDD_BRF)的滤波电容也应就近放置,走线则根据输入电流采用短而宽的布线,以降低纹波并提高稳定性。 - 若 PVDD、AVDD_BRF、AVDD33 或 AVDD33_AUD 共用一路电源,应从电源源头分别引出支路,采用星形布线;不得让这些支路共用一段前置电源线。
- VBUS 和 VBAT 充电路径应采用独立的星形布线,不与其他线路共用路径;敏感信号不得与其平行布线。
- BUCK 电感及滤波电容应紧靠芯片引脚。BUCK_LX 走线应短而宽;BUCK_FB 走线宽度应大于 0.25 mm。DC/DC 输出滤波电容的接地端应通过多个接地过孔连接主地平面。电感下方的顶层应保持无铜,相邻层应保持完整参考地,且不得有其他信号穿过电感区域。
- 电容接地端应通过就近的过孔连接主地。
- 3.3 V 供电系列的关键模拟/RF/IO 电源轨应采用星形布线。
原始电源走线要求与电源轨标注存在未解决冲突
- 线宽与电源轨标注: 原始 PCB 设计指南第 3.2.1 节要求
VCC和PVDD均至少为 0.4 mm(约 15.7 mil)。原始自查表 4-2-1-1 第 44 项(电池供电型号)要求VCC至少为 12 mil;第 47 项(3.3 V 供电型号)标题为PVDD,核查要点却要求VCC至少为 12 mil。原资料没有说明这些线宽如何协调,也没有说明第 47 项应以标题还是核查要点确定电源轨。不要推定修正值,也不要把一类供电型号的条目直接套用于另一类;定板前须向思澈科技(SiFli)确认适用电源轨、型号范围和线宽。 - 输出名称: 原始 PCB 设计指南第 3.2.1 节使用
VDD_VOUT1/VDD_VOUT2;原始自查表 4-2-1-1 第 45、46 项及本页 6.2 节速查表使用VDD33_VOUT1/VDD33_VOUT2。原资料没有说明这些名称是否为别名或不同电源轨。第 46 项标题重复写成VDD33_VOUT1,核查要点则写VDD33_VOUT2。 未经思澈科技(SiFli)确认,不要自行选定线宽、为第 47 项指定电源轨,或将两组输出名称视为等同。
6.4. 晶体布局¶
- 射频电路和主控芯片下方应保留完整、连续的参考地,不得分割或开槽。晶体区域的原始指导同时提到连续参考地和晶体下方避铜;详见下方警示。在思澈科技(SiFli)确认实际叠层的边界前,不要确定晶体区域的接地和避铜方案。
- 晶体应距芯片时钟管脚至少 1.5 mm,距板边超过 1 mm,距 PA、充电和 PMU 等发热器件至少 5 mm,以限制温升造成的频率漂移。原始资料给出封装周围顶层避铜至少 0.25 mm,并要求相邻层按参考设计设置禁布区,但未说明该尺寸与封装下方避铜范围的关系;布局放行前须向思澈科技(SiFli)确认适用边界。晶体正下方不得布设高频数字信号;最佳做法是不在该区域布设任何走线。晶体附近不得放置功率电感等磁性器件。
- XI/XO 走线只允许布设在顶层,不得换层。走线应短、对称并进行立体包地;两侧应密集布置接地过孔。晶体两端的对地负载电容应放在晶体两侧、靠近晶体的走线末端,电容接地焊盘应就近连接晶体地焊盘。电源过孔应尽量远离晶体走线。
- 48 MHz 晶体使用顶层走线,长度为 3~10 mm、线宽为 0.1 mm;48M_XI 与 48M_XO 的平行走线间距应至少为 0.15 mm。走线应进行立体包地,并远离 VBAT、DC/DC 和高速信号。晶体所在区域的顶层及相邻层均应设置禁布区。
- 32.768 kHz 晶体使用顶层走线,长度不超过 10 mm、线宽为 0.1 mm。走线模型要求 32K_XI 与 32K_XO 的平行间距至少为 0.15 mm;设计自查表则要求间距大于 2 倍线宽(按 0.1 mm 线宽计算即 >0.2 mm)。在思澈科技(SiFli)确认适用要求前,不要确定最终间距。走线应进行立体包地,晶体所在区域的顶层及相邻层均应设置禁布区。
原始晶体布局指南存在未解决冲突
- 接地屏蔽与避铜范围: PCB 设计指南第 3.3 节要求晶体区域保持连续参考地,并在晶体周边顶层避铜;图 3-3-1(本文图 6.9-30)标注封装周边间距至少为 0.25 mm。原始自查表 4-3-1 第 6 项要求晶体器件及振荡走线区域完整布设 GND 屏蔽;第 7 项则规定 4 层 PTH 板仅在晶体下方顶层避铜,6 层 HDI 板在顶层和第 2 层均避铜。原资料没有界定接地屏蔽区与晶体避铜区的边界,也没有说明连续参考地要求如何适用于这些叠层指定的禁铜层。这是尚未解决的适用范围冲突;不要自行推定逐层的铺铜或接地方式。
- 32.768 kHz 走线间距: PCB 设计指南第 3.3 节的走线模型图 3-3-4(本文图 6.9-33)要求平行的
32K_XI/32K_XO走线间距至少为 0.15 mm;原始自查表 4-3-1 第 9 项要求间距大于 2 倍基础线宽,按指南给出的 0.1 mm 线宽计算即大于 0.2 mm。两项给出的最小间距要求相互冲突。 - 封装周边避铜尺寸的适用范围: 图 3-3-1(本文图 6.9-30)要求封装周边顶层铜箔间距至少为 0.25 mm;原始自查表 4-3-1 第 7 项另行规定了两种叠层在晶体下方的禁铜层,但没有说明 0.25 mm 周边间距与封装下方禁铜区或相邻层禁布区之间的关系。 以上冲突及范围说明缺失均未在思澈科技(SiFli)的原始资料中解决。布局放行前,须针对实际封装和叠层取得确认;不要在间距要求中自行择一,也不要自行推导逐层接地或避铜边界。
6.5. RF 布局¶
- RF 匹配网络应靠近芯片并远离天线;AVDD_BRF 滤波电容应紧靠芯片引脚,其接地端通过过孔直接连接主地平面。
- RF 走线应尽量短,并尽可能减少过孔。
- 优先在顶层布置 RF 走线,避免换层;适用时建议线宽大于 10 mil。应进行立体包地,避免锐角和直角,并根据 PCB 叠层将阻抗控制为 50 Ω;走线两侧应密集布置接地过孔,形成连续的地过孔围栏。
- 天线净空应满足天线厂商要求和产品工业设计约束。
- 匹配器件焊盘与走线宽度不一致可能造成阻抗不连续。可按焊盘尺寸在其下方参考地层开窗,以改善阻抗连续性。
- 若使用 IPEX 天线座,其下方所有 PCB 层均应设置避铜区。PCB 天线应在实际 PCB 上进行仿真和调试;应预留 CLC 匹配网络,并尽量靠近天线布置。
- RF 走线应远离 LCD FPC、USB、SDIO、DC/DC、晶体和充电路径。
6.6. 模拟与音频¶
- AVDD33_AUD、MIC_BIAS 和 AUD_VREF 的滤波电容应紧靠芯片引脚,电容接地端应可靠连接 PCB 主地。
- 模拟电源的去耦电容应靠近芯片放置。
- 音频差分走线应进行等长处理,RC 网络应靠近芯片放置。
- ADCP 输入端的外围器件应紧靠芯片引脚;走线应尽量短、进行立体包地,并远离强干扰信号。
- DACP/DACN 输出端的外围器件应紧靠芯片引脚;每组 P/N 信号应按差分规则布线,尽量缩短走线,并将寄生电容控制在 10 pF 以下。走线应进行立体包地,并远离强干扰信号。
- GPADC 引脚走线应进行立体包地,并远离电池检测、温度检测等可能造成干扰的电路。
- 避免大电流回流路径穿过音频区域。
6.7. 高速接口¶
- USB DP/DN 应按 90 Ω 差分对布线,并先通过 ESD 防护器件。
- MPI 存储信号应紧密成组布线,总长不超过 20 mm,组内长度偏差不超过 3 mm;时钟、数据和命令信号均应进行立体包地,并保持参考地连续。
- SDIO 信号应集中成组布线,总长不超过 50 mm,组内长度偏差不超过 6 mm;时钟、命令和数据信号均应进行立体包地。
- RGB/DPI、8080、EPD 等并行显示总线应布置在连续的参考地平面上。
- USB PA35(USB_DP)和 PA36(USB_DN)应先经过 ESD 防护器件再接入芯片。USB 信号应按 90 Ω 差分阻抗布线并进行立体包地;ESD 器件的接地引脚应可靠连接主地。
- 高速时钟可预留串联电阻用于 EMI 调试。
6.8. EMI、ESD 与 EOS¶
- 所有外部接口均应评估 ESD 防护。
- 避免在屏蔽罩外的表层对时钟、电源等噪声源进行长距离走线;这类信号应改走内层。
- ESD 防护器件应紧邻连接器对应引脚。信号必须先经过 ESD 器件再进入后级电路,防护器件前不得分支。其接地引脚应通过过孔直接连接主地,接地走线应短而宽。
- USB、充电口、电池座、按键、触摸、显示、心率传感器、天线口是重点保护对象。
- USB 充电线路的测试点应布置在 TVS 防护器件前端;电池座对应的 TVS 应位于芯片电路前端,使信号先经过 TVS 再到达芯片。
- 充电输入保护需同时考虑 OVP、EOS 和 ESD。
6.9. PCB 参考图¶
以下 SF32LB57x 封装、焊盘、叠层、扇出、走线和防护图可作为新设计的主要 PCB 参考资料。
QFN80L 焊盘参考图中的中心裸露焊盘标注为 5.90 mm,而封装尺寸图标注为典型 5.50 mm(5.40~5.60 mm)。两幅图分别描述 PCB 焊盘和封装焊盘,不能当作相同尺寸直接互换;制作封装库前须核对具体封装版本及思澈科技(SiFli)的推荐焊盘。QFN68L/QFN80L 钢网参考图采用 0.125 mm 厚钢网,原图标注的中心焊盘锡膏覆盖率为 60%;开窗尺寸与覆盖率须由钢网厂复核。
BGA112 钢网参考图采用 0.075 mm 厚钢网,112 个开窗为 0.18 mm 方形,圆角 R0.05 mm。


































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